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真空氣氛爐
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真空氣氛燒結(jié)爐是一種用于高溫處理材料的加熱設(shè)備，結(jié)合了真空環(huán)境和氣氛控制功能。它通常用于陶瓷、粉末冶金、金屬制造等領(lǐng)域中的燒結(jié)工藝，能夠在特定的氣氛條件下對材料進(jìn)行燒結(jié)，以實現(xiàn)材料的致密化、結(jié)晶化或合金化等目的。溫度區(qū)間選擇從400-2000℃，真空度不大于0.001pa.
主要特點包括：
- 真空結(jié)構(gòu)： 真空氣氛燒結(jié)爐的外形類似圓罐，內(nèi)部空間用于放置待處理的材料樣品。圓罐類型設(shè)計可以滿足更高的真空度要求。。
- 真空環(huán)境： 真空氣氛燒結(jié)爐能夠在真空環(huán)境下進(jìn)行加熱處理。通過排除爐腔內(nèi)的氧氣和其他氣體，可以防止材料氧化、脫氣等反應(yīng)，提高材料的純度和質(zhì)量。
- 氣氛控制： 除了真空環(huán)境，真空氣氛箱式爐還可以控制氣氛環(huán)境，如氮氣、氬氣等惰性氣體環(huán)境。這有助于控制材料的化學(xué)反應(yīng)、脫氣和純度。
- 高溫加熱： 真空氣氛箱式爐通常能夠提供高溫加熱，可以達(dá)到空氣下最高2000℃的溫度（鎢加熱）。這使得它們適用于高溫處理需要的材料，如金屬、陶瓷、玻璃等。
- 精確控制： 真空氣氛箱式爐通常配備高精度的溫度控制系統(tǒng)，可以精確控制加熱過程的溫度、壓力和氣氛組成，以滿足不同材料加熱處理的需求。
- 真空度：真空氣氛燒結(jié)爐由于其結(jié)構(gòu)的特性，可以承載更高的壓力和真空度，其一般可滿足0.001Pa的正負(fù)氣壓。在爐膛真空的基礎(chǔ)上，通入氣氛，使燒結(jié)環(huán)境更加的純凈。
- 氣路和流量：真空氣氛箱式爐標(biāo)配有2路標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)氣，包含有浮球流量計和指針壓力表?？稍谄浠A(chǔ)上進(jìn)行功能和產(chǎn)品擴充。
- 真空泵機組：真空爐標(biāo)配有機械旋片泵（可滿足真空0.1Mpa）,同時為了滿足更高的真空需求，可定制羅茨泵及擴散泵及分子泵機組。
- 可擴展性：
- 控制方式定制：由傳統(tǒng)的國產(chǎn)儀表PID控制，可定制進(jìn)口儀表或PLC控制。多種選擇可滿足不同客戶的使用習(xí)慣。
- 爐門開啟方式：傳統(tǒng)開啟方式為側(cè)開，可定制開門方向及開啟方式，手動，半自動，自動化一應(yīng)俱全。
- 多面加熱：根據(jù)爐膛大小，熔科在盡可能保證爐溫均勻性的同時，額外提供多面加熱選擇，可滿足更高爐溫均勻性的要求。
- 多點控溫：根據(jù)不同的使用場景要求，可供客戶選擇多面加熱，以提高熱輻射效率和爐溫的覆蓋范圍。
- 排氣口和氣路：可根據(jù)客戶使用要求，增加排氣口和氣路以及流量計等，以滿足客戶對于工藝的要求。
- 觸摸屏控制：熔科可根據(jù)市場上現(xiàn)有流行的工控觸摸屏集合制作觸摸屏控制系統(tǒng)，報表，數(shù)據(jù)，可實時觀察下載。
標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格：
規(guī)格
爐膛尺寸（mm）
加熱元件
RK-VSF
300×200×200
硅碳棒，硅鉬棒，鉬片，鎢片等
400×250×250
500×300×300
600×400×400
800×500×500
備注： 1. 設(shè)備規(guī)格基于標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格書寫，特殊規(guī)格依然可定制。
2. 設(shè)備的溫度需求不同，則會考慮使用不同的加熱元件。
3. 真空和氣氛會影響發(fā)熱元件的使用效率，針對不同的氣氛發(fā)熱元件的溫度會存在一定差異。（具體情況可聯(lián)系詢問）
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