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真空氣氛爐
真空氣氛箱式爐是一種高溫處理設(shè)備，結(jié)合了真空環(huán)境和氣氛控制功能。它通常用于燒結(jié)、退火、熱處理等工藝，能夠在控制的氣氛條件下對(duì)材料進(jìn)行加熱處理。溫度區(qū)間選擇從400-1800℃，真空度不大于0.1Mpa.
主要特點(diǎn)包括：
- 箱式結(jié)構(gòu)： 真空氣氛箱式爐的外形類(lèi)似一個(gè)箱子，內(nèi)部空間用于放置待處理的材料樣品。箱式結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)使得它適用于加工較大量的樣品。
- 真空環(huán)境： 真空氣氛箱式爐能夠在真空環(huán)境下進(jìn)行加熱處理。通過(guò)排除爐腔內(nèi)的氧氣和其他氣體，可以防止材料氧化、脫氣等反應(yīng)，提高材料的純度和質(zhì)量。
- 氣氛控制： 除了真空環(huán)境，真空氣氛箱式爐還可以控制氣氛環(huán)境，如氮?dú)?、氬氣等惰性氣體環(huán)境。這有助于控制材料的化學(xué)反應(yīng)、脫氣和純度。
- 高溫加熱： 真空氣氛箱式爐通常能夠提供高溫加熱，可以達(dá)到空氣下最高1800℃的溫度。這使得它們適用于高溫處理需要的材料，如金屬、陶瓷、玻璃等。
- 精確控制： 真空氣氛箱式爐通常配備高精度的溫度控制系統(tǒng)，可以精確控制加熱過(guò)程的溫度、壓力和氣氛組成，以滿(mǎn)足不同材料加熱處理的需求。
- 真空度：真空氣氛箱式爐由于其結(jié)構(gòu)的特性，無(wú)法承載過(guò)于高的壓力和真空度，其一般可滿(mǎn)足0.1Mpa的正負(fù)氣壓。在爐膛真空的起初上，通入氣氛，使燒結(jié)環(huán)境更加的純凈。
- 氣路和流量：真空氣氛箱式爐標(biāo)配有2路標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)氣，包含有浮球流量計(jì)和指針壓力表?？稍谄浠A(chǔ)上進(jìn)行功能和產(chǎn)品擴(kuò)充。
- 可擴(kuò)展性：
- 控制方式定制：由傳統(tǒng)的國(guó)產(chǎn)儀表PID控制，可定制進(jìn)口儀表或PLC控制。多種選擇可滿(mǎn)足不同客戶(hù)的使用習(xí)慣。
- 爐門(mén)開(kāi)啟方式：傳統(tǒng)開(kāi)啟方式為側(cè)開(kāi)，可定制開(kāi)門(mén)方向及開(kāi)啟方式，手動(dòng)，半自動(dòng)，自動(dòng)化一應(yīng)俱全。
- 多面加熱：根據(jù)爐膛大小，熔科在盡可能保證爐溫均勻性的同時(shí)，額外提供多面加熱選擇，可滿(mǎn)足更高爐溫均勻性的要求。
- 多點(diǎn)控溫：根據(jù)不同的使用場(chǎng)景要求，可供客戶(hù)選擇多面加熱，以提高熱輻射效率和爐溫的覆蓋范圍。
- 排氣口和氣路：可根據(jù)客戶(hù)使用要求，增加排氣口和氣路以及流量計(jì)等，以滿(mǎn)足客戶(hù)對(duì)于工藝的要求。
- 觸摸屏控制：熔科可根據(jù)市場(chǎng)上現(xiàn)有流行的工控觸摸屏集合制作觸摸屏控制系統(tǒng)，報(bào)表，數(shù)據(jù)，可實(shí)時(shí)觀察下載。
標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格
規(guī)格 爐膛尺寸（mm） 電壓 功率 發(fā)熱元件 ZQLB 200×150×150 220V 4KW U型硅碳棒 300×200×200 380V 8KW U型硅碳棒 300×300×300 380V 12KW U型硅碳棒 500×300×200 380V 15KW U型硅碳棒 500×300×300 380V 18KW U型硅碳棒 600×400×400 380V 24KW U型硅碳棒 800×500×500 380V 35KW U型硅碳棒 備注 1. 功率數(shù)據(jù)以1200攝氏度為例，更高溫度發(fā)熱元件選擇有所變化。
2. 真空氣氛會(huì)影響發(fā)熱元件的發(fā)熱效率，從而影響使用溫度。
3.功率電壓等為參考值，具體以實(shí)際提供技術(shù)參數(shù)為準(zhǔn)。
真空氣氛箱式爐在材料科學(xué)、金屬加工、陶瓷制備等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用，能夠提供穩(wěn)定、可控的加熱環(huán)境，有助于實(shí)現(xiàn)材料的特定性能和結(jié)構(gòu)的調(diào)控。需要額外注意的是，如果空氣中的使用溫度為1700℃的高溫爐，在不同的氣氛和真空度下，其使用溫度會(huì)有變化。詳情可咨詢(xún)。
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