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真空氣氛升降爐（Vacuum Atmosphere Furnace）是一種用于高溫處理材料的設(shè)備，通常用于熱處理金屬和陶瓷材料。這種爐子的特點(diǎn)在于它能夠在真空或特定氣氛（比如惰性氣體）下進(jìn)行加熱處理，從而控制材料的特性和質(zhì)量。

這種爐子通常由一個(gè)密封的加熱腔室構(gòu)成，內(nèi)部可以進(jìn)行真空抽氣或氣氛控制。在加熱過(guò)程中，可以通過(guò)控制加熱元件（電阻絲，硅碳棒，硅鉬棒）來(lái)實(shí)現(xiàn)所需的溫度。同時(shí)，可以通過(guò)向爐內(nèi)引入特定氣氛，如氮?dú)?、氫氣或氬氣，?lái)控制材料的氧化狀態(tài)或進(jìn)行其他化學(xué)反應(yīng)。

電阻加熱升降爐的主要特點(diǎn)包括：

1. 電阻加熱： 采用電阻加熱元件（電阻絲/帶，硅碳棒，硅鉬棒）作為加熱源，通過(guò)電阻加熱將爐膛內(nèi)的物料加熱到所需溫度。電阻加熱具有加熱速度快、能耗低、溫度控制精度高等優(yōu)點(diǎn)。
2. 升降功能： 設(shè)備配備了升降裝置，可以調(diào)節(jié)爐底的高度。通過(guò)升降裝置，可以控制物料與加熱源之間的距離，從而調(diào)整物料的加熱時(shí)間和溫度。
3. 靈活性和效率： 電阻加熱升降爐設(shè)計(jì)靈活，能夠滿足不同工藝需求。具有加熱速度快、溫度控制精度高、操作簡(jiǎn)便等優(yōu)點(diǎn)，有助于提高生產(chǎn)效率。
4. 控制系統(tǒng)： 控制系統(tǒng)用于監(jiān)測(cè)和調(diào)節(jié)底部升降爐的運(yùn)行狀態(tài)，包括溫度、壓力、升降速度等參數(shù)。控溫通常由溫控儀來(lái)控制，升降進(jìn)出通過(guò)變頻器控制行走電機(jī)來(lái)完成。大型升降爐會(huì)配備有觸摸屏控制，提高生產(chǎn)和控制的效率。
5. 真空度：真空氣氛燒結(jié)爐由于其結(jié)構(gòu)的特性，可以承載更高的壓力和真空度，其一般可滿足0.01Pa的正負(fù)氣壓。在爐膛真空的基礎(chǔ)上，通入氣氛，使燒結(jié)環(huán)境更加的純凈。
6. 氣路和流量：真空氣氛箱式爐標(biāo)配有2路標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)氣，包含有浮球流量計(jì)和指針壓力表?？稍谄浠A(chǔ)上進(jìn)行功能和產(chǎn)品擴(kuò)充。
7. 真空泵機(jī)組：真空爐標(biāo)配有機(jī)械旋片泵（可滿足真空0.1Mpa）,同時(shí)為了滿足更高的真空需求，可定制羅茨泵及擴(kuò)散泵及分子泵機(jī)組。
8. 可擴(kuò)展性：
   1. 控制方式定制：由傳統(tǒng)的國(guó)產(chǎn)儀表PID控制，可定制進(jìn)口儀表或PLC控制。多種選擇可滿足不同客戶的使用習(xí)慣。
   2. 平臺(tái)進(jìn)出和數(shù)量：平臺(tái)進(jìn)出可定制為自動(dòng)行走，平臺(tái)數(shù)量最多為2個(gè)，可滿足一邊燒制，一邊裝（卸）物料。
   3. 多面加熱：根據(jù)爐膛大小，熔科在盡可能保證爐溫均勻性的同時(shí)，額外提供多面加熱選擇，可滿足更高爐溫均勻性的要求。
   4. 多點(diǎn)控溫：根據(jù)不同的使用場(chǎng)景要求，可供客戶選擇多面加熱，以提高熱輻射效率和爐溫的覆蓋范圍。
   5. 排氣口和氣路：可根據(jù)客戶使用要求，增加排氣口和氣路以及流量計(jì)等，以滿足客戶對(duì)于工藝的要求。
   6. 觸摸屏控制：熔科可根據(jù)市場(chǎng)上現(xiàn)有流行的工控觸摸屏集合制作觸摸屏控制系統(tǒng)，報(bào)表，數(shù)據(jù)，可實(shí)時(shí)觀察下載。
9. 規(guī)格參數(shù)：